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第184章 开放才是未来(2 / 3)

因此,仅从以上一点的分析,我们完全就可以推算出,存储芯片的市场是要远远大于其他种类芯片的。

那既然如此,李怡炫为什么不发展存储芯片呢?而偏要发展CPU和GPU呢?问题是,存储芯片的技术门槛要远低于CPU、GPU和DSP,技术门槛低,入行的企业相对就多,竞争必然激烈。

而CPU、GPU和DSP就不一样了,能够生产这三种芯片的企业,全世界也就那么几家,是典型的卖方市场,芯片价格不是由市场说了算,而是由生产它的企业说了算。

这时候的英特尔虽然早在1970年就推出了世界上首款CPU,但这时候的CPU还不是英特尔公司的主要业务,英特尔还看不到未来CPU市场的巨大潜力,他们的关注点还集中在存储芯片上,如果这个时候把闪存技术给放出去,无论是英特尔还是AMD,哪怕是IBM,都会把目光放在更高技术的闪存上,这样一来,就没人把目光放在更加有未来的CPU上,德玛吉就有了充分的时间在CPU市场上布局,让他们在存储器厮杀吧,等他们反应过来,德玛吉早已是CPU行业的一哥了。

这是两年前,李怡炫就制定好的战略发展计划,现在看来,这个计划已经初见成效了,台上的安迪.格鲁夫是意气飞扬,他怎么也没想到,早在两年前,他们就已经掉进了李怡炫为他们精心设计的坑里面。

闪存属于高级存储器,对工艺要求极高,必须使用CMOS工艺才能达到要求,当英特尔把全部的身价投入进去开发CMOS的闪存工艺技术的时候,就已经说明他们基本上放弃了CPU。

虽然未来的CPU也是CMOS工艺,但这两者是完全不同的CMOS技术,CPU主要用的是N阱CMOS工艺,属于NMOS,而闪存更多属于P阱CMOS反相器工艺,两者是完全的不同。

当然,你可以用P阱CMOS反相器工艺生产CPU,用N阱CMOS工艺来生产闪存,可这么做在经济上非常不划算,用P阱CMOS反相器工艺生产的CPU,良品率非常的低,最高不过60%,用N阱CMOS工艺来生产的闪存也一样,良品率都不怎么样,这会导致芯片成本过高,成本不划算。

但反过来就完全不一样了,只有工艺成熟,产业工人的熟练度够高,良品率想要维持在95%以上压力不大。

至于NP同阱CMOS工艺,又是另外一种工艺技术了,数码相机上的CMOS感光传感器,就需要用到NP同阱CMOS工艺技术。

另外,英特尔在2012年推出的3DCPU,全称叫做3D三栅极CPU,其实就是NP同阱CMOS工艺升级版,简单来说,就是在NP同阱的硅晶片的中间硅,把这个硅给拔高成第三极,就是我们所谓的3D中央处理器。

传统扁平的2D平面晶体管只在顶部有一个栅极,技术人员将2D平面栅极“拔”高成了相当薄的、从硅基体垂直竖起的3D硅鳍状物。这样,在鳍状物的两侧和顶部各有一个栅极,形成导电通道,增加了反型层面积,提高了次临界斜率,降低了漏电流和临界电压,进而实现电流控制。

使晶体管在“开”的状态下让尽可能多的电流通过,而在“关”的状态下尽可能让电流接近零,降低了功耗;同时还能在两种状态之间迅速切换,开关速度快就可以提高晶体管的性能。

原理上,3D处理器并不复杂,但要实现它非常的难,所有的生产设备,包括封装生产线都得更换,所有的设备包括刻蚀机在内,都要具备3D三栅极的功能,只要有一个工艺环节达不到要求,3D处理器就做不出来。目前,全世界只有英特尔才掌握这项技术,AMD都不行,台/湾的台

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