域网的新标准——WiFi。”
……
打击竞争者，权谋是必须的，但不能是全部，否则的话，难以服众——而在IT领域，技术领先就是一个毫无争议的制胜法宝。
自然而然地，本届哲儒春季开发者大会的技术含金量，不是什么NC联盟大会、Java联盟大会能比的。
就拿铜互连来讲，这个创意早就有了，但由于实现难度太高，业界普遍不看好其前景，结果现在，唐IT把它研究明白了。
所谓的铜互连，用个浅显的描述来讲就是，像微处理器这样的超大规模集成电路里，连接无数个晶体管的“导线”，原来是铝，现在用铜来取代。
摩尔定律——“集成电路芯片上所集成的电路的数目，每隔18个月就翻一倍”，堪称半导体工业路线图的准绳。而在过去的30多年的时间里，它也一直百灵百验。
在这个不断前进的过程里，半导体行业跟上发展步伐的方法简单粗暴，即一味寻求缩减集成电路上零部件的体积，以增加可容纳晶体管的数量，从而提高芯片的速度。
这种方法说白了就是，用来在“萝卜”上刻“花”的那把“刀”，越来越精巧，刀工也越来越高明，随之，雕花也越来越细致。
时至今日，半导体工艺的制程——用来给萝卜刻花的那把刀，正在普及0.35微米；哲儒即将投入0.25微米，并布局0.18微米。
包括哲儒的Holder、英特尔的Pentium、IBM的Power、太阳微系统的SPARC、DEC的Alpha、MIPS科技的MIPS等等在内的微处理器，都在积极采用0.35微米制程，以顺利迈过运行频率100MHz这个极具标志意义的门槛。
不过，这个最直接的方法，也是有极限的——最起码可以预见的是，当制程达到比0.18微米更精密的阶段，难度会极度放大。
在这种情况下，半导体行业升级除了紧紧盯着制程这个外部元素的“雕刀”之外，也开始努力在“萝卜”这个内部元素上做文章。
以前，在这方面的手段也很直接粗暴，即主要是提高晶圆尺寸——自1990年代初以来，在哲儒的引领下，半导体业界纷纷引入200毫米，也就是8英吋晶圆的制造技术。
显而易见，晶圆直径的尺寸增加后，可容纳的晶体管数量也大幅度提高，但让“萝卜变粗”的品种改良过程，所遇到的瓶颈更难突破。
所以，半导体行业必须改变“粗放型”的发展模式，转而在“精致”上花功夫。
而铜互连技术的引入，相当于在局部着手，改善了萝卜的口味、提高了对雕刀刻画的承受力。
用专业的话来解释，因为铜的电阻率约为1.7纳欧·米，铝的电阻率约为2.8纳欧·米，铜的导电率大大高于铝，所以超大规模集成电路里采用铜互连，能够减小互连层的厚度，降低互连层间的分布电容，从而让微处理器进一步提高运行频率成为可能。
与此同时，随着集成电路的密度进一步增加，电子迁移现象变得无法忽视，而在这方面，铜也比铝有很强的优越性。盖因，铜的熔点约为1084摄氏度，铝的熔点约为660摄氏度，铜相对更不容易发生电子迁移现象。
引用更为具体的数据就是，铜的导电能力大约比铝高40%，从而使得微处理器的运行频率提高大约15%；与此同时，铜比铝更加耐用，也让集成电路不但可以做得更小，还能让可靠性提高大约100倍。
当然了，万物不可能十全十美——相比于传统的铝互连，铜互连虽然具有低电阻率、较好的抗电子迁移能力等等优点，但也