再下一步就可以放进高温炉中，炉内温度恒定以后可以开始观察记录。
付宗夏对材料性能很感兴趣，他和手下副研究员汤石山一起做检测。
两人一起忙到晚上七点钟，高温炉内温度已经恒定保持在1650°c。
付宗夏还留下来继续观察，他觉得材料可能很快就会开裂，但等了一个多小时也没见出现明显变化，只表面多了一层灰色的膜状物。
那是氧化硅膜，碳化硅在800"c以上环境就可以和氧化硅。
付宗夏看了一下时间，等的不耐烦，干脆交代汤石山道，“石山，你今天辛苦一下，盯一个晚上，明天早上我来接班。”
“行。”
汤石山早有心理准备。
如果发现材料出现明显开裂，或者高温炉壁快速出现白色粉末，也就是氧化硅大量快速挥发，检测也就可以结束了。
后续就是等待自然冷却，再进行一系列的测定，都可以明天上午再进行。
反之，现在这种情况什么也没有发生，就需要不断进行观察记录。
熬夜，是肯定的了，区别是熬到几点钟。
“应该也快。”
付宗夏到外间脱下白大褂，“我估计再等一、两个小时就差不多了。”
他说完离开了检测中心。
等开车回了家，付宗夏又问了汤石山下情况，知道材料依旧没有任何变化。
他顿时惊奇起来，赶紧把消息发到了工作群组，“检测最新进展：1650摄氏度，恒温超过两小时，材料性态稳定！”
群组里一下热闹了，“两个小时还没有变化？说明是合格产品。”
“看来张明浩做的方案调整最少不是负面的。”
“王主任不是说有参考意义？看来是这样。”
很多人猜测材料进了高温炉，都不需要多久就会直接开裂。
实际上，曹金泉团队用高压烧结法常规制造的碳化硅陶瓷，有时候，放进高温炉持续也会开裂。材料没有开裂，说明质量是合格的。
有人顿时说道，“谁来赌一把？赌什么时候能看到氧化硅快速挥发相？”
氧化硅快速挥发相，也就是高温炉壁上出现大量的白色粉末。
其他人顿时跟上，“我赌三个小时！”
“四个小时！”
“十二点前能看到”
氧化硅快速挥发相是必然会出现的，只是时间长短的区别。
在800摄氏度，碳化硅会和氧反应形成氧化硅，氧化硅膜层附着在材料表面，会对内部形成一种保护。，而氧化硅在1600°c以上环境的挥发速度，决定了碳化硅陶瓷的抗氧化能力。高压烧结的碳化硅陶瓷，1650摄氏度环境下，抗氧化检测续稳定的最长时间是13个小时。曹金泉团队制备的碳化硅陶瓷，最高记录只有8个小时。
那是材料杂质非常少，致密度高的情况下才能得到的结果。
所以很多人判断三到五个小时会看到氧化硅快速挥发相的原因。
这个时间已经不短，材料的抗氧化性能，能得到个“优秀’的评价。
王新平也冒了个泡，他发了一句话，“我赌八个小时，曹教授，八个小时是最高记录吧？”曹金泉也跟上发了句，“我亲手做的材料，肯定要支持一下。八个小时！”
群组里是说说笑笑，但很多人还是上了心。
第二天早上八点，好几个研究员都等在了检测中心的实验室门口。
曹金泉也来的很早，他朝里面看了一眼，问道，“石山在里面？不出来说一下？”
“估计睡着了吧。”
有人猜测着解释道，“我们没叫他，里面不能进。”
“先等等吧。”
几个人一起等着，很快就等到了